Le CEA est un acteur majeur de la recherche, au service des citoyens, de l'économie et de l'Etat.
Il apporte des solutions concrètes à leurs besoins dans quatre domaines principaux : transition énergétique, transition numérique, technologies pour la médecine du futur, défense et sécurité sur un socle de recherche fondamentale. Le CEA s'engage depuis plus de 75 ans au service de la souveraineté scientifique, technologique et industrielle de la France et de l'Europe pour un présent et un avenir mieux maîtrisés et plus sûrs.
Implanté au coeur des territoires équipés de très grandes infrastructures de recherche, le CEA dispose d'un large éventail de partenaires académiques et industriels en France, en Europe et à l'international.
Les 20 000 collaboratrices et collaborateurs du CEA partagent trois valeurs fondamentales :
- La conscience des responsabilités
- La coopération
- La curiosité Cadre et contexte :
Le CEA-LETI est engagé dans le développement et l'intégration des nouvelles technologies pour l'industrie des semi-conducteurs. La lithographie est une étape fondamentale pour la réalisation des composants, et les développements R&D associés à cette étape doivent être traités avec rigueur pour en extraire un maximum d'informations. De nombreux scripts de traitements de données sont actuellement développés au sein du Laboratoire de PAtterning Computationnel (LPAC) pour répondre aux besoins d'ingénierie en lithographie. Actuellement sous forme de code Python, ces traitements pourraient être transformés en outils (packagés) et utilisés par beaucoup plus de monde dans un cadre opérationnel (Labo Lithographie Jour et équipes opérationnelles au sein du Leti).
Une base commune d'outils de traitement permettrait, outre le fait d'aller plus vite et de ne pas tout redévelopper, de mieux interagir entre nous et de mieux capitaliser
Travail demandé :
Déployer les scripts LPAC aux acteurs opérationnels et engineering du service Patterning, soit à travers d'une interface spécifique ou par le biais de notebooks Jupyter. Co-construire et étendre le déploiement à des applications ciblées notamment un outil de traitement des fenêtres de procédés de lithographie.
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