Mission :
Nous recherchons activement un ingénieur de recherche en optique, pour un contrat de deux ans minimum, afin de développer des outils de spectroscopie optique et de lithographie avancés pour la fabrication de sources déterministes de photons uniques. Nous étudions des boites quantiques semiconductrices de différents types et émettant à diverses longueurs d'ondes, intégrées dans des cavités optiques en micro-pilliers AlAs/GaAs. Nous utilisons pour cela une technologie unique - baptisée lithographie-in-situ - réalisée à température cryogénique : cette technologie permet de mesurer la position d'une boite quantique avec une précision nanométrique et de définir une structure photonique autour. Ces composants sont au cœur de toutes les activités de recherches sur les boites quantiques menées dans l'équipe GOSS du C2N.
Le/la candidat.e retenu.e jouera un rôle clé dans la conduite du programme de recherche du laboratoire commun QDlight (C2N-Quandela, lire contexte de travail ci-après) en concevant, développant et en exploitant les prochaines générations d'outils de lithographie in situ, pour la recherche sur les composants à base de boites quantiques en cavité. Au fil du temps, ce rôle peut évoluer pour inclure de nouvelles responsabilités dans la conception et le développement de nouvelles possibilités dans les étapes de lithographie, ainsi que dans la caractérisation et la validation des composants.
Nous recherchons un.e candidat.e ayant de solides bases en optique expérimentale et en nano-photonique.
Vous devez avoir une expérience des montages optiques et être capable de mener des expériences scientifiques complexes du début à la fin. Une expérience en spectroscopie d'émetteur quantique unique ou en lithographie laser serait appréciée. La curiosité et la capacité à acquérir rapidement de nouvelles compétences, tout en travaillant méticuleusement sur les tâches assignées, sont essentielles.
Activités :
- Collaborer étroitement avec les ingénieurs du laboratoire commun pour assurer le bon fonctionnement des systèmes de lithographie in situ existants.
- Concevoir, développer et exploiter des nouveaux procédés de lithographie in situ afin d'avoir un contrôle plus poussé sur les objets fabriqués.
- Identifier les possibilités d'améliorer les performances des dispositifs finaux grâce à l'optimisation des paramètres de lithographie et géométrie des micro-piliers, identification des états quantiques d'intérêt, etc.
- Documenter systématiquement les résultats et rendre compte des conclusions, notamment en contribuant à des brevets, à des publications scientifiques et en se tenant au courant de l'état de l'art en participant à des conférences internationales.
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